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Technical articles

技術文章

20264-29

CIF離子濺射儀是使用什么技術工作的？
CIF離子濺射儀是一款小型臺式磁控濺射設備，專為電鏡樣品制備與實驗室精密鍍膜設計，主打低溫、均勻、智能可控。該設備采用磁控濺射技術：腔體抽至高真空；通入氬氣，電場電離產生氬離子；離子在磁場約束下高速轟擊金/鉑/鉻等靶材；靶材原子被濺射到樣品...
20264-21

低溫等離子有機質去除儀的應用范圍廣泛可歸納為四個方向
低溫等離子有機質去除儀，又稱等離子灰化儀，是一種利用低溫等離子體技術去除材料中有機質的精密處理設備。與傳統的溶劑清洗、高溫灼燒等方法不同，它能夠在不破壞材料基體結構的前提下，在較低溫度下高效氧化分解有機污染物，被譽為有機質去除領域的“綠色革...
20263-31

RIE反應離子刻蝕機的工作原理
RIE反應離子刻蝕機是微納加工核心干法刻蝕設備，通過等離子體物理轟擊、化學反應協同實現材料的各向異性、高精度、高選擇比刻蝕，廣泛用于半導體、MEMS、光電子、化合物半導體等領域。工作原理：等離子體生成：在真空腔室內，通過高頻電場激發刻蝕氣體...
20263-31

電感耦合等離子清洗機從三大維度突破工藝瓶頸
在半導體、精密電子、制造等領域，電感耦合等離子清洗機（ICP清洗機）已成為不可少的核心工藝設備。它以電感耦合射頻技術為核心，通過電離惰性或反應性氣體形成高密度等離子體，實現材料表面的超精密清潔、活化與改性，解決傳統清洗技術無法突破的納米級清...
20263-27

微機電系統制造對等離子去膠機的依賴尤為明顯
在芯片制造的潔凈車間里，一片晶圓經過多道工序后，表面覆蓋的光敏材料需要被精確剝離。承擔這項任務的設備，通過電離氣體產生化學活性物質，以氣相反應的方式完成清潔工作。等離子去膠機的核心原理建立在等離子體化學基礎之上。設備腔體內，氧氣或含氟氣體在...
20262-2

一起了解下氧等離子清洗機的五大核心單元
氧等離子清洗機是依托等離子體表面處理技術，以氧氣為工作氣體實現材料表面精細化清洗、活化與改性的專用設備，核心在真空環境中將氧氣電離為活性氧等離子體，通過等離子體與材料表面的物理、化學作用，去除有機污染物并優化表面特性，全程無化學試劑、無二次...

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華儀行（北京）科技有限公司

企業歷程:◆2006年，在美國加州洛杉磯注冊成立賽福國際集團有限公司（CIFInternationalGroupCo.,Ltd）。成立之初是一家面向大學科研院所銷售儀器設備的供應商。◆2008年，自主研發生產石墨電熱板以來，先后研發生產酸蒸逆流清洗器、酸純化器、智能消解儀等理化實驗儀器設備，從此走上研發生產專業化道路。◆2010年，掌握了等離子核心技術，自主研發生產科研型等離子清洗機系列產品。◆2014年，在中國注冊成立華儀行（北京）科技有限公司，正式進入中國市場，部分儀器設備研發、制造業務移至...

華儀行（北京）科技有限公司

地址：北京市豐臺區科興路7號國際企業孵化中心301室

郵箱：cif_lab@163.com

傳真：86-010-63752028

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